高密度矩形深刻蚀石英光栅
- 申请号：CN200410017063.4
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN1564050
- 公开(公开)日：2005.01.12
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 高密度矩形深刻蚀石英光栅 | ||
| 申请号 | CN200410017063.4 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN1564050 | 公开（授权）日 | 2005.01.12 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;张妍妍 |
| 主分类号 | G02B27/44 | IPC主分类号 | G02B27/44;H04B10/12;H04J14/00 |
| 专利有效期 | 高密度矩形深刻蚀石英光栅 至高密度矩形深刻蚀石英光栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种用于常用波段1.55微米光纤通信的密集波 分复用器件的高密度矩形深刻蚀石英光栅，其特征在于该光栅 的线密度为600～700线/毫米，光栅的深度为2.8～3.1微米， 光栅的占空比为1/2。本发明可以同时使TE、TM偏振方向的 +1级布拉格透射衍射效率实现高于83％的结果，本发明矩形 刻蚀石英光栅由微电子光刻工艺、深刻蚀工艺加工而成，可以 低成本、大批量生产。 | ||
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