基于AFM的纳米级电极加工方法
- 申请号：CN201010138122.9
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院沈阳自动化研究所
- 公开(公开)号：CN102211755A
- 公开(公开)日：2011.10.12
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 基于AFM的纳米级电极加工方法 | ||
| 申请号 | CN201010138122.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102211755A | 公开（授权）日 | 2011.10.12 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 发明（设计）人 | 焦念东;王志迁;董再励 |
| 主分类号 | B82B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B82B3/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 基于AFM的纳米级电极加工方法 至基于AFM的纳米级电极加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开一种基于AFM的纳米级电极加工方法，通过控制AFM探针与样本作用力、探针运动路径及速度对微米级电极进行切割加工，实现电极前端宽度100纳米以内的纳米级电极的加工，增加其在纳流控测试中的检测精度及灵敏度。本发明的纳米级电极加工方法可应用于纳流控芯片中对纳米沟道内流体特性及生物单分子进行高灵敏度检测分析。 | ||
交易流程
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选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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过户资料
平台保障
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