专利详情

专利名称	用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法
申请号	CN201010141912.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102210916A	公开（授权）日	2011.10.12
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	赵进才;孙春燕;陈春城;马万红
主分类号	A62D3/10(2007.01)I	IPC主分类号	A62D3/10(2007.01)I
专利有效期	用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法至用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法。本发明是利用小分子羧酸或其盐中的羧酸根与有机卤代物因卤键的相互作用而生成离子对络合物。该离子对络合物在可见光区产生一个新的吸收带，在可见光源的照射激发下，离子对络合物受激发发生电子转移，小分子羧酸根中的氧原子将电子传递给有机卤代物中的卤原子，加入有机或无机碱使小分子羧酸根中的氧原子给电子能力增强，可使反应速率加快。有机卤代物得电子的同时从溶剂中抽氢，脱卤还原为易处理的所含卤原子数减少的低卤代物或完全脱卤产物，从而达到有效降解有机卤代物的目的。本发明的方法在常温下即可进行，极大提高了对太阳能的利用率，无二次污染，具有广阔的应用前景。