专利详情

专利名称	一种包含纳米缝的金属膜透镜
申请号	CN200710177752.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101158727	公开（授权）日	2008.04.09
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;徐挺;杜春雷;王长涛
主分类号	G02B3/00(2006.01)I	IPC主分类号	G02B3/00(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G01N33/483(2006.01)I;G01N21/00(2006.01)I
专利有效期	一种包含纳米缝的金属膜透镜至一种包含纳米缝的金属膜透镜	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种包含纳米缝的金属膜透镜，其特征在于：首先确定入射波，再选取合适的基底材料，在基底上再蒸镀一层金属膜，让入射波垂直于金属膜表面入射，计算入射波在所取的金属膜中的趋肤深度；在金属膜上选定x轴方向，在x轴正方向上抽样；然后通过计算每个抽样点的相位改变量、传播常数计算出每个抽样点金属缝的宽度；取x轴负方向上的缝隙排布与其正方向上缝隙排布呈对称分布；最后根据设计所得的各抽样点的缝宽；利用现有加工技术进行制作，得到包含纳米缝的金属膜透镜。本发明可以根据事先给定的任意物像位置来改变金属膜透镜的缝隙分布以实现近场或者远场成像，同时本发明所设计的透镜结构简单，可以很方便的用于光路系统集成，具有广阔的应用前景。