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半导体激光器腔面温度的测量方法

  • 申请号:CN200910081995.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN101865729A
  • 公开(公开)日:2010.10.20
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 半导体激光器腔面温度的测量方法
申请号 CN200910081995.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101865729A 公开(授权)日 2010.10.20
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 饶岚;宋国峰;汪卫敏;陈良惠
主分类号 G01K5/48(2006.01)I IPC主分类号 G01K5/48(2006.01)I;G01R31/26(2006.01)I
专利有效期 半导体激光器腔面温度的测量方法 至半导体激光器腔面温度的测量方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种利用扫描近场光学显微镜测量半导体激光器腔面温度的方法,包括如下步骤:将半导体激光器安装在热沉上,并引出电极;测试半导体激光器的参数;将热沉固定在扫描近场光学显微镜样品测试台上;将电极与电流输出装置的电流输出端连接;将扫描近场光学显微镜的探针置于半导体激光器的出光腔面上方;将半导体激光器与扫描近场光学显微镜探针逼近,而处于非接触的工作状态;根据半导体激光器的特征尺寸,确定包含半导体激光器的有源区的扫描范围;在没有电流注入的条件下,扫描获得形貌图像;再注入一个恒定的电流,获得半导体激光器出光腔面的形貌图像和近场光斑图像;比较注入电流前后的形貌图像,计算出形貌变化的差值;根据半导体激光器中各种材料的热膨胀系数,计算出对应的温度变化。

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