高分辨率光学相干层析成像方法
- 申请号：CN200710172096.X
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN101181153
- 公开(公开)日：2008.05.21
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 高分辨率光学相干层析成像方法 | ||
| 申请号 | CN200710172096.X | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101181153 | 公开（授权）日 | 2008.05.21 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 丁超;王向朝;步鹏 |
| 主分类号 | A61B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | A61B5/00(2006.01)I;G01N21/45(2006.01)I |
| 专利有效期 | 高分辨率光学相干层析成像方法 至高分辨率光学相干层析成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种高分辨率光学相干层析成像方法，采用深度分辨色散补偿更精确 地补偿光路和样品中的色散，从而消除色散的展宽效应。本发明的优点是 实施色散补偿不需要预先知道样品的材料和结构信息，既能补偿干涉仪两 臂的色散失配，又可以补偿样品内部的色散，而且可以针对样品内部不同 的深度采用相应的色散系数进行补偿，达到最佳的补偿效果，获得高分辨 率的光学相干层析图。 | ||
交易流程
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