
含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器
- 申请号:CN200610144306.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN101192739
- 公开(公开)日:2008.06.04
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器 | ||
申请号 | CN200610144306.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101192739 | 公开(授权)日 | 2008.06.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 王青;何国荣;渠红伟;韦欣;宋国峰;陈良惠 |
主分类号 | H01S5/183(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I;H01S5/30(2006.01)I;H01S5/32(2006.01)I;H01S5/34(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I |
专利有效期 | 含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器 至含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器, 包括:一热沉;一散热片,该散热片制作在热沉上; 一上N型电极,该上N型电极制作在散热片上的中间 处;一上N型DBR层,该上N型DBR层为一倒梯形, 该上N型DBR层制作在上N型电极上;一高铝组分氧 化限制层,该高铝组分氧化限制层位于上N型DBR层 中间的两侧;一绝缘层,该绝缘层制作在上N型DBR 层的外侧;一光学谐振腔,该光学谐振腔制作在上N 型DBR层上;一下N型DBR层,该下N型DBR层制作 在光学谐振腔上;一衬底,该衬底制作在下N型DBR 层上;一下N型电极,该下N型电极制作在衬底上, 该下N型电极的中间形成一出光窗口。 |
交易流程
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选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
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确认变更
成功 - 06 支付尾款
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平台保障
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