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含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器

  • 申请号:CN200610144306.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN101192739
  • 公开(公开)日:2008.06.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器
申请号 CN200610144306.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101192739 公开(授权)日 2008.06.04
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 王青;何国荣;渠红伟;韦欣;宋国峰;陈良惠
主分类号 H01S5/183(2006.01)I IPC主分类号 H01S5/183(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I;H01S5/30(2006.01)I;H01S5/32(2006.01)I;H01S5/34(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I
专利有效期 含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器 至含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器, 包括:一热沉;一散热片,该散热片制作在热沉上; 一上N型电极,该上N型电极制作在散热片上的中间 处;一上N型DBR层,该上N型DBR层为一倒梯形, 该上N型DBR层制作在上N型电极上;一高铝组分氧 化限制层,该高铝组分氧化限制层位于上N型DBR层 中间的两侧;一绝缘层,该绝缘层制作在上N型DBR 层的外侧;一光学谐振腔,该光学谐振腔制作在上N 型DBR层上;一下N型DBR层,该下N型DBR层制作 在光学谐振腔上;一衬底,该衬底制作在下N型DBR 层上;一下N型电极,该下N型电极制作在衬底上, 该下N型电极的中间形成一出光窗口。

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