
一种质谱质量测量误差的预测方法
- 申请号:CN200610164852.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院计算技术研究所
- 公开(公开)号:CN101196498
- 公开(公开)日:2008.06.11
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种质谱质量测量误差的预测方法 | ||
申请号 | CN200610164852.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101196498 | 公开(授权)日 | 2008.06.11 |
申请(专利权)人 | 中国科学院计算技术研究所 | 发明(设计)人 | 高文;张京芬;贺思敏 |
主分类号 | G01N30/72(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N30/72(2006.01)I |
专利有效期 | 一种质谱质量测量误差的预测方法 至一种质谱质量测量误差的预测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种质谱质量测量误差的预测方法,包括如下步骤:步骤一,将 物质的测量误差分解为系统误差与随机误差;步骤二,在质谱中计算样本点的测量 误差,样本点包括质谱中的离子、离子之和或者离子之差;步骤三,使随机误差的 目标函数取最值来确定系统误差分布函数的参数取值。所述在质谱中计算样本点的 测量误差是通过预测离子分子式的方法获得。本发明的优点是:不需要额外的内标 或外标参考,不需要进行预先的鉴定;既可以预测单个质谱的误差情况,也可以预 测整个样品的所有质谱的误差分布情况;预测准确度高。 |
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