专利详情

专利名称	一种具有相分离结构的二氧化钛薄膜的制备方法
申请号	CN200610169557.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101205119	公开（授权）日	2008.06.25
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	王丹;姚建曦
主分类号	C03C17/23(2006.01)I	IPC主分类号	C03C17/23(2006.01)I
专利有效期	一种具有相分离结构的二氧化钛薄膜的制备方法至一种具有相分离结构的二氧化钛薄膜的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种具有相分离结构的二氧化钛薄膜的制备方法，其为利用光聚合诱导相分离的方法，在镀膜的溶胶中加入易于聚合的高分子单体，对浸渍提拉后制备的薄膜进行紫外光照来引发反应单体聚合，导致薄膜表面相分离结构的形成，最后通过热处理制备锐钛矿型二氧化钛薄膜。采用该方法，可以得到了二维的旋节相分离结构和多孔结构的锐钛矿晶型的二氧化钛薄膜，该薄膜不存在颗粒的晶界，且呈现了非常好的光催化性能。本发明的制备方法避免了以往方法中存在的缺点，其通过改变单体种类、光照时间、光源种类等反应条件，能够非常简单的实现对薄膜的表面形貌和微区尺寸进行调控。本方法工艺流程简单、可控性强、薄膜结构可重复率高。