一种含氢纳米结构CNx梯度薄膜的制备方法
- 申请号：CN200810189943.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院兰州化学物理研究所
- 公开(公开)号：CN101768722A
- 公开(公开)日：2010.07.07
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种含氢纳米结构CNx梯度薄膜的制备方法 | ||
| 申请号 | CN200810189943.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101768722A | 公开（授权）日 | 2010.07.07 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 张俊彦;张斌 |
| 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种含氢纳米结构CNx梯度薄膜的制备方法 至一种含氢纳米结构CNx梯度薄膜的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种在不锈钢基底上直接沉积含氢纳米结构CNx梯度薄膜的制备方法。该方法利用中频磁控溅射物理气相沉积技术，以不锈钢为基底材料，采用高纯氮气、氩气和甲烷为反应溅射气体，分别镍靶和钛靶的方法制备了四元含氢纳米结构CNx梯度薄膜。 | ||
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