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磁控溅射法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层的方法

  • 申请号:CN201010118300.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN101768729A
  • 公开(公开)日:2010.07.07
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 磁控溅射法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层的方法
申请号 CN201010118300.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101768729A 公开(授权)日 2010.07.07
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 黄富强;王耀明;朱小龙;李爱民;张雷
主分类号 C23C14/35(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期 磁控溅射法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层的方法 至磁控溅射法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层的方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明涉及一种铜铟镓硒(CIGS)太阳电池光吸收层薄膜的制备方法。本发明的特征在于在底电极上通过磁控溅射法,采用单靶溅射、富铜靶和贫铜靶同时或先后溅射,制备出具有高反应活性、可快速反应烧结的CIGS前驱薄膜,然后将CIGS前驱薄膜进行热处理,快速反应生成平整、致密、均匀、光电性能良好的CIGS太阳电池光吸收层薄膜。本发明所提供的制备方法,可控性强,薄膜质量高、均匀性好,工艺简单,适合工业化生产。

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