专利详情

专利名称	氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法
申请号	CN200810229969.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101745434A	公开（授权）日	2010.06.23
申请（专利权）人	中国科学院金属研究所	发明（设计）人	侯鹏翔;喻万景;李世胜;刘畅;成会明
主分类号	B01J37/00(2006.01)I	IPC主分类号	B01J37/00(2006.01)I;B01J37/08(2006.01)I;B01J23/745(2006.01)I;B01J21/18(2006.01)I;B01J35/00(2006.01)I
专利有效期	氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法至氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内的选择性填充，具体为一种氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内选择性填充、氧化铁颗粒填充量和尺寸精确可控的方法和填充复合物的用途。以具有规则孔结构的阳极氧化铝膜为模板，通过化学气相沉积法在模板上均匀沉积炭层，得到阳极氧化铝膜/碳的复合物；把复合物放入硝酸铁溶液中，室温下超声震荡，取出阳极氧化铝膜/碳的复合物，干燥后在保护气氛下处理，将硝酸铁分解成氧化铁，然后去除阳极氧化铝模板，最后获得氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内选择性填充的纳米碳管。氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔，氧化铁颗粒重量含量在5-70％之间精确均匀可控，氧化铁颗粒尺寸在1-10纳米可控。