专利详情

专利名称	GaInP/GaAs/InGaNAs/Ge四结太阳能电池及其制备方法
申请号	CN201210249534.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102790117A	公开（授权）日	2012.11.21
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	赵勇明;董建荣;李奎龙;孙玉润;于淑珍;杨辉
主分类号	H01L31/0687(2012.01)I	IPC主分类号	H01L31/0687(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期	GaInP/GaAs/InGaNAs/Ge四结太阳能电池及其制备方法至GaInP/GaAs/InGaNAs/Ge四结太阳能电池及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种GaInP/GaAs/InGaNAs/Ge四结太阳能电池，包括Si支撑衬底，以及在所述Si支撑衬底表面依次设置的Ge或GaInAs的第一接触层、Ge子电池、第一隧穿结、InGaNAs子电池、第二隧穿结、GaAs子电池、第三隧穿结、GaInP子电池和InGaAs或GaAs的第二接触层。本发明还提供一种GaInP/GaAs/InGaNAs/Ge四结太阳能电池的制备方法，包括步骤：1)提供一GaAs衬底；2)在GaAs衬底表面生长依次生长第二接触层、GaInP子电池、第三隧穿结、GaAs子电池、第二隧穿结、InGaNAs子电池、第一隧穿结、Ge子电池和第一接触层；3)提供一Si支撑衬底；4)将Si支撑衬底键合至第一接触层表面；5）从第二接触层处将GaAs衬底剥离以去除GaAs衬底。