
一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法
- 申请号:CN201010214239.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN102314523A
- 公开(公开)日:2012.01.11
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 | ||
申请号 | CN201010214239.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102314523A | 公开(授权)日 | 2012.01.11 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 吴玉平;陈岚;叶甜春 |
主分类号 | G06F17/50(2006.01)I | IPC主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
专利有效期 | 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 至一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 本发明公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据,对物理版图按计算节点进行区域划分,对不同计算节点内的区域进行同构分析,确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序,按顺序对物理版图区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明利用多级区域分割算法对物理版图进行划分,利用同构分析方法对划分后区域进行分析,找出其中相同的区域,让时间顺序上在后的要分析和优化的区域,不用再进行计算,而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果,从而节约时间,提高速度。 |
交易流程
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