专利详情

专利名称	一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用
申请号	CN201110221384.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102319443A	公开（授权）日	2012.01.18
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	舒春英;甄明明;王春儒;郑俊鹏
主分类号	A61K49/06(2006.01)I	IPC主分类号	A61K49/06(2006.01)I
专利有效期	一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用至一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种适用于低场磁共振成像的高效MRI大分子造影剂及其制备方法与应用。所述MRI大分子造影剂可按照包括下述步骤的方法制备：a)将富勒烯羧酸衍生物溶于MES缓冲液中，加入EDC和NHS，室温下反应，得到富勒烯羧酸活性酯溶液；b)将Gd-DTPA-HSA加入到所述富勒烯羧酸活性酯溶液中搅拌反应，即得到所述的MRI造影剂。该Gd-DTPA-HSA-fullerene大分子造影剂在低场(0.5T)条件下弛豫效率显著提高，可在减少造影剂的使用剂量条件下得到明显的组织对比度；更为重要的是将其作为一种MRI分子探针，可以用于探索纳米材料(如功能化富勒烯衍生物)的体内分布代谢行为。