专利详情

专利名称	全淹没射流抛光装置及方法
申请号	CN201010586835.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102120314A	公开（授权）日	2011.07.13
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	施春燕;袁家虎;伍凡;万勇建;范斌;雷柏平
主分类号	B24C3/00(2006.01)I	IPC主分类号	B24C3/00(2006.01)I;B24C1/08(2006.01)I
专利有效期	全淹没射流抛光装置及方法至全淹没射流抛光装置及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明是一种全淹没射流抛光装置及方法，装置包括：喷嘴、抛光液容器、待抛光工件、工件装夹、抛光液回收槽、数控抛光机床、数控计算机、压力表、压力调节阀、增压泵、抛光液搅拌器、抛光液回收容器和多根液体管路，工件装夹固定在抛光液容器的底端，待抛光工件置于工件装夹中并固接；喷嘴的一端固定在数控抛光机床的抛光运动头中，数控计算机控制喷嘴的坐标位置和停留时间，定量去除待抛光工件的材料。方法是待抛光工件装夹在抛光液容器中，把抛光液注入抛光液容器中，待抛光工件和喷嘴出口全部淹没在抛光液中；启动液压部开始淹没射流抛光；数控计算机调节喷嘴与待抛光工件表面之间的距离；控制抛光驻留时间实现定量去除材料。