
一种制备晶硅太阳电池局域背接触的方法
- 申请号:CN200810119967.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院电工研究所
- 公开(公开)号:CN101359702
- 公开(公开)日:2009.02.04
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 一种制备晶硅太阳电池局域背接触的方法 | ||
申请号 | CN200810119967.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101359702 | 公开(授权)日 | 2009.02.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院电工研究所 | 发明(设计)人 | 赵雷;王文静 |
主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
专利有效期 | 一种制备晶硅太阳电池局域背接触的方法 至一种制备晶硅太阳电池局域背接触的方法 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 一种制备晶硅太阳电池局域背接触的方法,步骤如下:在晶硅衬底(1)背面淀积 铝层(2),利用阳极氧化将铝层(2)制成阳极氧化铝孔阵列(3),生成的阳极氧化 铝孔要贯穿整个铝层,之后在阳极氧化铝孔阵列(3)上淀积背接触电极(4),并进行 退火,使背接触电极(4)通过阳极氧化铝孔与晶硅衬底(1)形成欧姆接触。 |
交易流程
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