专利详情

专利名称	制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法
申请号	CN200810117465.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101369029	公开（授权）日	2009.02.18
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	田恩涛;王京霞;宋延林;江雷
主分类号	G02B1/02(2006.01)I	IPC主分类号	G02B1/02(2006.01)I;C30B33/00(2006.01)I;C08J7/18(2006.01)I;C08L25/06(2006.01)I;C08L53/00(2006.01)I
专利有效期	制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法至制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法。本发明是使掺杂有光引发剂和交联剂的聚合物单体溶液均匀渗入到蛋白石型结构的光子晶体薄膜的空隙中，然后用紫外光照射该薄膜使聚合物单体聚合，聚合物单体聚合后将构成蛋白石型结构的光子晶体薄膜中的乳胶粒小球紧密连接起来，在乳胶粒小球间形成聚合物高分子网络，利用聚合物高分子链形成的网络结构来增强光子晶体的性能，因此能够增强光子晶体薄膜的机械性能。以薄膜的硬度和杨氏模量为例，在蛋白石型结构的光子晶体薄膜的空隙中渗入有聚合物单体溶液，经光交联处理后，可以使光子晶体薄膜的硬度，杨氏模量等力学性能和耐各种溶剂性能大大提高，且基本不影响其原本具有的光学性能。