环氧胶阵列的制作方法
- 申请号：CN200810201544.9
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号：CN101383391
- 公开(公开)日：2009.03.11
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 环氧胶阵列的制作方法 | ||
| 申请号 | CN200810201544.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101383391 | 公开（授权）日 | 2009.03.11 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 张海燕;龚海梅;马伟平;陆华杰 |
| 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
| 专利有效期 | 环氧胶阵列的制作方法 至环氧胶阵列的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种环氧胶阵列的制作方法，它适用于制作红外焦平面探测 器组件的封装结构试验模拟件。本发明的制作方法包括：光刻胶柱阵列图形， 匀环氧胶，环氧胶固化，浮光刻胶，去除多余环氧胶和点液态环氧胶工艺步骤。 本发明的环氧胶柱阵列制作工艺所需的温度低，工艺简单且成本低廉，能更好 的满足了组件结构设计的需求。 | ||
交易流程
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