
在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法
- 申请号:CN200710121658.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN101388345
- 公开(公开)日:2009.03.18
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法 | ||
申请号 | CN200710121658.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101388345 | 公开(授权)日 | 2009.03.18 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 崔军朋;段垚;王晓峰;曾一平 |
主分类号 | H01L21/36(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/36(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I |
专利有效期 | 在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法 至在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 一种在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法,其特征 在于,包括以下步骤:步骤1:取一金属衬底;步骤 2:对金属衬底进行抛光,以获得较光滑的表面;步 骤3:将抛光后的金属衬底表面清洗干净;步骤4: 将清洗干净的金属衬底放入生长设备中,在金属衬底 上生长缓冲层;步骤5:在缓冲层上生长ZnO薄膜, 完成在金属衬底上ZnO薄膜的制备。 |
交易流程
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