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在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法

  • 申请号:CN200710121658.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN101388345
  • 公开(公开)日:2009.03.18
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法
申请号 CN200710121658.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101388345 公开(授权)日 2009.03.18
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 崔军朋;段垚;王晓峰;曾一平
主分类号 H01L21/36(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/36(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I
专利有效期 在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法 至在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法 法律状态 授权
说明书摘要 一种在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法,其特征 在于,包括以下步骤:步骤1:取一金属衬底;步骤 2:对金属衬底进行抛光,以获得较光滑的表面;步 骤3:将抛光后的金属衬底表面清洗干净;步骤4: 将清洗干净的金属衬底放入生长设备中,在金属衬底 上生长缓冲层;步骤5:在缓冲层上生长ZnO薄膜, 完成在金属衬底上ZnO薄膜的制备。

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