一种减反射涂层的制备方法
- 申请号：CN201110099890.2
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：国家纳米科学中心
- 公开(公开)号：CN102749666A
- 公开(公开)日：2012.10.24
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种减反射涂层的制备方法 | ||
| 申请号 | CN201110099890.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102749666A | 公开（授权）日 | 2012.10.24 |
| 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 周凌云;张辉;张晖;张忠 |
| 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B1/11(2006.01)I;C09D1/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种减反射涂层的制备方法 至一种减反射涂层的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供一种制备减反射涂层的方法，该方法包括以下步骤：(1)制备纳米分散液：将SiO2和/或Al2O3纳米颗粒分散于溶剂中，形成纳米分散液；(2)制备涂层：在基底上涂覆纳米分散液，固化形成涂层。该方法具有以下优点：简单易行；可实现涂层大面积成膜；可实现涂层与基底的良好附着；可应用于广泛的基底材料；制备得到的涂层具有能够有效的减少反射及增加透射的效果，采用双面涂覆时可进一步大大提高基底的透光性能。 | ||
交易流程
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