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温室型非制冷红外焦平面阵列

  • 申请号:CN200810223350.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN101398330
  • 公开(公开)日:2009.04.01
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 温室型非制冷红外焦平面阵列
申请号 CN200810223350.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101398330 公开(授权)日 2009.04.01
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 董立军
主分类号 G01J5/02(2006.01)I IPC主分类号 G01J5/02(2006.01)I
专利有效期 温室型非制冷红外焦平面阵列 至温室型非制冷红外焦平面阵列 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种温室型非制冷红外焦平面阵列,包括密闭的封装壳 体,所述封装壳体一面为锗玻璃窗口,另一面为光学玻璃窗口,所述封装 壳体内充满高红外吸收率的温室气体或液体,封装壳体中间自上而下贯穿 设置有一个焦平面阵列成像单元,焦平面阵列成像单元完全被气体或液体 包围,所述焦平面阵列成像单元由双材料梁和反光板构成,双材料梁靠近 光学玻璃窗口的一侧安装有一个反光板,所述双材料梁为梳齿状阵列,由 多个均匀间隔分布的梳齿条构成,每个梳齿条均由热膨胀系数相差很大的 两种材料构成。它用气体或者液体作为红外辐射的吸收材料,是一个覆盖 全部大气窗口的新型红外焦平面阵列,同时具有双材料梁,具有成本低的 优点。

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