
振动场下晶体生长装置和生长方法
- 申请号:CN200810040954.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN101407940
- 公开(公开)日:2009.04.15
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 振动场下晶体生长装置和生长方法 | ||
申请号 | CN200810040954.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101407940 | 公开(授权)日 | 2009.04.15 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 刘岩;艾飞;潘秀红;张英;金飞;高国忠;冯楚德;金蔚青 |
主分类号 | C30B30/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B30/06(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I |
专利有效期 | 振动场下晶体生长装置和生长方法 至振动场下晶体生长装置和生长方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及振动场下晶体生长装置和生长方法,所述的生长装置包括炉体 (1)、传动机构(2)、样品安瓿(3)、振动发生器(4)、支架(5)、传动杆(6) 和导向杆(7),其中炉体(1)竖直放置,样品安瓿(3)垂直穿过炉体(1)在 炉体(1)中沿垂直方向相对移动,样品安瓿(3)下端固定安装在振动发生器 (4)上;传动机构(2)通过传动杆(6)与炉体(1)连接,并带动炉体(1) 沿轴向上下移动。炉体(1)套穿安装在导向杆(7)上,沿导向杆(7)的轴向 上下移动,传动机构(2)及导向杆(7)均安装在固定支架(5)上。本发明在 晶体生长过程中引入了轴向的外加振动场,可以有效控制熔体中的对流,改变 固液界面形状,通过探索最佳工艺参数,提高晶体品质和成品率。 |
交易流程
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选取所需
专利 -
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