专利详情

专利名称	一种基于金属覆盖层的负折射人工材料
申请号	CN200810227029.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101424758	公开（授权）日	2009.05.06
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;胡承刚;赵泽宇;陈旭南
主分类号	G02B5/18(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/18(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I
专利有效期	一种基于金属覆盖层的负折射人工材料至一种基于金属覆盖层的负折射人工材料	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种基于金属覆盖层的负折射人工材料，其特征包括以下步骤：(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层高纯SiO₂膜；(2)在高纯SiO₂膜表面蒸镀一层铬膜，并在其上均匀涂覆一层光刻胶；(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；(5)采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO₂膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；(6)采用真空蒸镀技术，在SiO₂光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成。本发明具有制作简便，单层损耗小，单层正入射的特性，在磁共振、近场光学、隐身材料等领域具有很大的应用前景。