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薄膜吸收多通道测量装置及测量方法

  • 申请号:CN200810204471.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN101435767
  • 公开(公开)日:2009.05.20
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 薄膜吸收多通道测量装置及测量方法
申请号 CN200810204471.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101435767 公开(授权)日 2009.05.20
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 陶春先;赵元安;柯立公;贺洪波;李大伟;刘晓凤;张雷
主分类号 G01N21/17(2006.01)I IPC主分类号 G01N21/17(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I
专利有效期 薄膜吸收多通道测量装置及测量方法 至薄膜吸收多通道测量装置及测量方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种应用于大口径激光薄膜的薄膜吸收多通道测量装置及其测量方 法,该装置由激励激光器、探测激光器、激励光衰减器、第一电子快门、 激励光透镜组、探测光衰减器、反射镜、第二电子快门探测光衰减器、 探测光透镜组、样品夹具、步进电机、滤波片、聚焦透镜、面阵CCD 相机、快门驱动器、图像采集卡、数据卡以及计算机组成,本发明具有 测量准确、快速、高效、运行稳定和数据处理自动化的特点。

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