一种制作聚酰亚胺有机镂空薄膜的方法
- 申请号：CN200710178315.5
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号：CN101445614
- 公开(公开)日：2009.06.03
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种制作聚酰亚胺有机镂空薄膜的方法 | ||
| 申请号 | CN200710178315.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101445614 | 公开（授权）日 | 2009.06.03 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 朱效立;谢常青;叶甜春;刘明 |
| 主分类号 | C08J5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | C08J5/18(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08J9/26(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种制作聚酰亚胺有机镂空薄膜的方法 至一种制作聚酰亚胺有机镂空薄膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种制备聚酰亚胺镂空薄膜的方法，该方法包括： 将衬底清洗，烘干；在衬底表面旋涂一定厚度的聚酰亚胺胶；对衬底 进行热处理；冷却后，将衬底装入密封良好的卡具，放入酸性腐蚀液 中腐蚀；腐蚀完毕，取出镂空的衬底，清洗，烘干。本发明提供的制 备聚酰亚胺镂空薄膜的方法，具有成本低、成品率高、效率高等显著 的优点。 | ||
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