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一种低氧含量亚微米级过渡金属硼化物粉体的制备方法

  • 申请号:CN201110252688.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN102417188A
  • 公开(公开)日:2012.04.18
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种低氧含量亚微米级过渡金属硼化物粉体的制备方法
申请号 CN201110252688.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102417188A 公开(授权)日 2012.04.18
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 张国军;郭伟明;阚艳梅
主分类号 C01B35/04(2006.01)I IPC主分类号 C01B35/04(2006.01)I
专利有效期 一种低氧含量亚微米级过渡金属硼化物粉体的制备方法 至一种低氧含量亚微米级过渡金属硼化物粉体的制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种低氧含量亚微米级过渡金属硼化物粉体的制备方法,包括如下步骤:首先将过渡金属氧化物和单质硼进行球磨混合、干燥,得到MO2/B混合粉体;再将MO2/B混合粉体进行热处理,得到MB2/B2O3粉体;将得到的MB2/B2O3粉体加入水中,加热搅拌以溶出其中的B2O3,然后离心分离,得到MB2粉体;将得到的MB2粉体再次进行热处理。与现有技术相比,由本发明方法制备的过渡金属硼化物粉体具有粒径小,平均粒径为200~700nm;团聚度低;粉体氧含量低,氧含量大约为0.01~1.0wt%等优点;且本发明的制备方法工艺简单、实用,可操控性强,容易实现规模化生产。

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