一种基片加热装置
- 申请号：CN201210084682.X
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院电工研究所
- 公开(公开)号：CN102605349A
- 公开(公开)日：2012.07.25
- 法律状态：授权
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专利详情
| 专利名称 | 一种基片加热装置 | ||
| 申请号 | CN201210084682.X | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102605349A | 公开（授权）日 | 2012.07.25 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院电工研究所 | 发明（设计）人 | 刁宏伟;王文静;赵雷;周春兰;李海玲 |
| 主分类号 | C23C16/46(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/46(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种基片加热装置 至一种基片加热装置 | 法律状态 | 授权 |
| 说明书摘要 | 一种基片加热装置，包括箱体和基片载板加热架。所述的基片载板加热架安装在所述的箱体内。所述的基片载板加热架上有多个插槽。基片载板加热架安装在两条相对平行的导轨上，在水平方向上往复运动。需要加热的基片通过固定螺钉及基片载板插槽固定在基片载板上，再将基片载板插入基片载板加热架插槽中进行加热。本发明采用电加热方式加热，适用于对批次基片进行同时加热。 | ||
交易流程
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专利 -
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