专利详情

专利名称	一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法
申请号	CN201210107575.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102621601A	公开（授权）日	2012.08.01
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;王长涛;赵泽宇;冯沁;王彦钦;高平;罗云飞;黄成;杨磊磊;陶兴
主分类号	G02B3/00(2006.01)I	IPC主分类号	G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I
专利有效期	一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法至一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法，先选择基底材料；在基底表面旋涂牺牲层，其厚度为d1；在牺牲层上沉积平面多层膜，包括可用于激发表面等离子体的金属膜层和介质膜层，多层膜的厚度为d2；在多层膜上旋涂一层光刻胶，其厚度为d3；在光刻胶上曝光，显影得到所需大小的半圆形结构；将半圆形结构刻蚀转移到多层膜上，形成多层半圆形结构；在多层半圆形结构上沉积曲面多层膜，其厚度为d4；在曲面多层膜上沉积一层铬膜，膜厚为d5；在铬膜上进行开缝，缝宽为d6，间距为d7；在铬膜层上选用粘连剂粘连一块石英片；将基底和石英片泡在丙酮溶液内，通过溶解牺牲层来去掉基底材料。本发明的透镜可以实现图形的超分辨缩小成像。