专利详情

专利名称	矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法
申请号	CN200710158573.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101451233	公开（授权）日	2009.06.10
申请（专利权）人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司	发明（设计）人	耿达;戚晖;张军
主分类号	C23C14/54(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/54(2006.01)I;G05B19/02(2006.01)I
专利有效期	矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法至矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法，该装置具有工业控制计算机、运动执行机构及运动控制卡，运动控制卡接收运动执行机构的反馈信号，并向运动执行机构发送控制信号，运动控制卡与工业控制计算机进行通讯连接；工业控制计算机存有控制程序。该方法包括以下步骤：初始化操作；进入等待及状态显示界面，同时报警检测；用户手动设置系统状态参数；控制代码的设定，将用户设置的代码转换成运动控制卡能够识别的运动函数；控制程序是否按控制代码自动运行以及运行结束后样品状态设定；选择是，则开线程运行系统并实时显示；程序结束运行。本发明提高了样品成膜的均匀性，操作简单、易实现，且安装和携带方便。