软X射线遮光膜及其制备方法
- 申请号：CN201210289501.7
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院高能物理研究所
- 公开(公开)号：CN102779558A
- 公开(公开)日：2012.11.14
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 软X射线遮光膜及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN201210289501.7 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102779558A | 公开（授权）日 | 2012.11.14 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明（设计）人 | 陈田祥;胡渭;孙庆荣;陈勇;李晓军 |
| 主分类号 | G21F1/12(2006.01)I | IPC主分类号 | G21F1/12(2006.01)I;G21F1/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 软X射线遮光膜及其制备方法 至软X射线遮光膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供了一种软X射线遮光膜，包括高分子材料薄膜、支撑网及铝层，其中，所述支撑网设置于所述高分子材料薄膜上，所述铝层包覆在所述高分子材料薄膜及支撑网表面上。该软X射线遮光膜覆盖有铝膜，可仅透过软X射线而阻止其它光线，且具有良好的力学性能。本发明同时还提供了该软X射线遮光膜的制备方法。 | ||
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