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制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法

  • 申请号:CN200910244525.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102117768A
  • 公开(公开)日:2011.07.06
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法
申请号 CN200910244525.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102117768A 公开(授权)日 2011.07.06
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 万里兮;吕壵;王惠娟
主分类号 H01L21/78(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/78(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I
专利有效期 制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法 至制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法,通过一系列理论的论证和假设,将原来半导体PN结电容器加以改进,使改进后的电容具有结构简单,电容密度大,寄生参数小,制作工艺简单等特点,特别是可实现串联电感大大降低,这样可使电容工作在更高的频率内。该电容可广泛用于高频高速功率电子系统中的退耦,滤波,匹配,静电和电涌防护等功能。

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