
制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法
- 申请号:CN200910244525.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN102117768A
- 公开(公开)日:2011.07.06
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法 | ||
申请号 | CN200910244525.9 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102117768A | 公开(授权)日 | 2011.07.06 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 万里兮;吕壵;王惠娟 |
主分类号 | H01L21/78(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/78(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
专利有效期 | 制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法 至制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种制作具有多电极超低电感的多槽PN结电容器的方法,通过一系列理论的论证和假设,将原来半导体PN结电容器加以改进,使改进后的电容具有结构简单,电容密度大,寄生参数小,制作工艺简单等特点,特别是可实现串联电感大大降低,这样可使电容工作在更高的频率内。该电容可广泛用于高频高速功率电子系统中的退耦,滤波,匹配,静电和电涌防护等功能。 |
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