
基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器
- 申请号:CN201210350017.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN102856789A
- 公开(公开)日:2013.01.02
- 法律状态:授权
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器 | ||
申请号 | CN201210350017.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102856789A | 公开(授权)日 | 2013.01.02 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 张冶金;王海玲;渠红伟;马绍栋;郑婉华 |
主分类号 | H01S5/10(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/10(2006.01)I;H01S5/30(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I |
专利有效期 | 基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器 至基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 一种基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器,包括:一硅衬底;一二氧化硅层制作在硅衬底之上;一硅环状波导层制作在二氧化硅层之上;一键合缓冲层制作在硅波导层上;一N型接触层制作在键合缓冲层之上;一N型电极制作在N型接触层之上的中间;一环状量子阱有源区制作在N型电极的环状部分之内,N型接触层之上;一P型环状接触层制作在环状量子阱有源区之上;一P型环状盖层制作在P型环状接触层之上;一环状P型电极制作在环状P型盖层之上。本发明该结构在高密度集成,单纵模工作,高效耦合输出。更重要的是在工艺加工中省去通常的DFB分布反馈光栅制作及III-V族材料二次外延等工艺步骤,降低复杂性。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
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可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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