专利详情

专利名称	利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法
申请号	CN201210015259.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102565904A	公开（授权）日	2012.07.11
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	俞斌;周常河;贾伟;麻健勇
主分类号	G02B5/18(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法至利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种利用光栅成像后扫描光刻制备大尺寸光栅的方法，该方法包括：构建一个带有滤波装置的光栅成像光路系统；制备一片有锯齿形轮廓的位相光栅；利用步骤一所建立的光路，将位相光栅和基板引入光路中，使光栅清晰地成像于基板上；通过移动基板实现扫描光刻；将所述的完成扫描曝光基板进行显影、去铬、去胶、刻蚀再去铬这一系列工艺后即得到大尺寸光栅。本发明方法具有设备结构简单、不存在杂散光、能量利用率高的优点，在制作大尺寸光栅方面有很好的发展前景。