一种干冰微粒喷射清洗装置
- 申请号：CN201110166485.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号：CN102836844A
- 公开(公开)日：2012.12.26
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种干冰微粒喷射清洗装置 | ||
| 申请号 | CN201110166485.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102836844A | 公开（授权）日 | 2012.12.26 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 郭新贺;景玉鹏 |
| 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B7/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种干冰微粒喷射清洗装置 至一种干冰微粒喷射清洗装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种干冰微粒喷射清洗装置，属于半导体清洗技术领域。该装置包括CO2供应系统、清洗系统和真空系统；CO2供应系统为清洗系统提供清洗所需CO2，真空系统为清洗系统提供真空环境；CO2供应系统和真空系统分别连接于清洗系统。利用该装置时，清洗效率高，对硅片表面不会产生损伤，节省大量水资源，操作简单，无环境污染，可以使硅片表面达到高洁净度。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
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2、平台验证，实名审核
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4、专员跟进，交易保障
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