
微结构保角性转移方法
- 申请号:CN201210593568.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 公开(公开)号:CN103021818A
- 公开(公开)日:2013.04.03
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 微结构保角性转移方法 | ||
申请号 | CN201210593568.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103021818A | 公开(授权)日 | 2013.04.03 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 狄增峰;郭庆磊;张苗;魏星;薛忠营;母志强;戴佳赟 |
主分类号 | H01L21/02(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
专利有效期 | 微结构保角性转移方法 至微结构保角性转移方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种微结构保角性转移方法,至少包括以下步骤:提供一自下而上依次为底层硅、埋氧层及顶层X纳米薄膜的XOI衬底,在所述顶层X纳米薄膜上涂覆哑铃状的光刻胶作为掩膜,进行刻蚀得到哑铃状的微结构;然后利用氢氟酸溶液或者BOE溶液将所述埋氧层进行腐蚀,直至所述微结构中间图形微米带部分完全悬空,且所述两端区域以下仍有部分未被完全腐蚀掉的埋氧层,形成固定结,最后提供一基板与所述微结构相接触,并迅速提起基板以将所述微结构转移到所述基板上。本发明的微结构保角性转移方法利用简易的端点固定图形化设计,对微结构纳米薄膜进行固定,实现完全保角性转移,大大的降低了保角性转移工艺的复杂度,降低了工艺成本。 |
交易流程
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