
一类具有立构规整性的窄带隙共轭聚合物或齐聚物、及其制备方法
- 申请号:CN201110178024.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海有机化学研究所
- 公开(公开)号:CN102850340A
- 公开(公开)日:2013.01.02
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一类具有立构规整性的窄带隙共轭聚合物或齐聚物、及其制备方法 | ||
申请号 | CN201110178024.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102850340A | 公开(授权)日 | 2013.01.02 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 发明(设计)人 | 李维实;叶怀英;梅崇余 |
主分类号 | C07D417/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D417/04(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;C08G61/12(2006.01)I;H01L51/46(2006.01)I |
专利有效期 | 一类具有立构规整性的窄带隙共轭聚合物或齐聚物、及其制备方法 至一类具有立构规整性的窄带隙共轭聚合物或齐聚物、及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供了一种既具有窄带隙特征又具有侧链立构规整性的共轭聚合物或齐聚物,及其制备方法。此类共轭齐聚物或聚合物的结构式如下:其中,R为饱和的烷基长链取代基,m为1~6的整数,n为1~16的整数或大于4的不确定整数。当n为1~16的整数时,指的是齐聚物。当n为大于4的不确定整数时,数均分子量为1000~500000时,指的是聚合物。这类共轭聚合物和齐聚物的结构特征是重复单元含交替的苯并噻二唑电子受体基团和寡聚噻吩电子给体基团,为典型的电子给体-电子受体交替结构,给聚合物和齐聚物带来窄带隙特征;而且噻吩环上的烷基取代基具有统一朝向,赋予聚合物和齐聚物侧链立构规整性。此类特殊结构的类聚合物和齐聚物具有优异的光谱性质,预计在有机光电器件方面潜在着广泛用途。 |
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