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一种基于宏设计集成电路版图的方法

  • 申请号:CN201110171227.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102841953A
  • 公开(公开)日:2012.12.26
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种基于宏设计集成电路版图的方法
申请号 CN201110171227.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102841953A 公开(授权)日 2012.12.26
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 高立博;刘梦新;卢剑;罗家俊
主分类号 G06F17/50(2006.01)I IPC主分类号 G06F17/50(2006.01)I
专利有效期 一种基于宏设计集成电路版图的方法 至一种基于宏设计集成电路版图的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种基于宏设计集成电路版图的方法,特征在于包括以下步骤:(1)针对设计要求,拆分目标版图到多个最简图形单元;(2)与库对比,查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元,如果是,则进行到步骤(3),否则转到步骤(4);(3)调用相应的宏,设定参数,进行拼接,形成器件版图;(4)制作新宏,添加到所述库中,接下来按照步骤(3)形成器件版图。通过本发明,可以实现版图的复用,使得不同工艺之间转化迁移更便利,同时避免大量重复单元绘制时引起偏差与设计工时的浪费,提高精度与工作效率。利用制作宏的方法,可以定制化的制作新的宏,并添加到宏库中,使宏库的规模、适用性及实用性不断提高。

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