专利详情

专利名称	一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统
申请号	CN201110082634.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102141738A	公开（授权）日	2011.08.03
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	徐锋;胡松;罗正全;周绍林;陈旺富;李金龙;谢飞;李兰兰;盛壮
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I
专利有效期	一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统至一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明是一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统，由光路、图像处理模块、电路控制模块组成。光路包括准直激光束、两个光栅标记、四个透镜、硅片台、CCD图像探测器；准直激光束垂直照明一光栅标记，并沿着一、二透镜的光轴对硅片台表面构成掠入射成像，投影在硅片台被测表面上并发生镜面反射，光栅像通过三、四透镜再次成像在四透镜的焦面上，一光栅标记的像与二光栅标记以一定间隙重叠，发生多次衍射，并在光栅的表面形成放大的莫尔干涉条纹，然后成像于CCD图像探测器上。通过图像处理模块对图像进行处理提取出相位差，进而计算出离焦量；再通过电路控制模块判断硅片台表面的离焦情况，进而控制硅片台移动，使硅片台表面达到最佳焦面位置。