
一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法
- 申请号:CN201010256968.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN101907719A
- 公开(公开)日:2010.12.08
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法 | ||
申请号 | CN201010256968.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101907719A | 公开(授权)日 | 2010.12.08 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 刘梦新;韩郑生;赵超荣;刘刚 |
主分类号 | G01T1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01T1/02(2006.01)I |
专利有效期 | 一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法 至一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及电离辐射剂量测量领域,公开了一种对基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计进行退火方法,该方法将经辐照后失效的所述基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计的正栅电极、背栅电极、源电极以及漏电极接至地线,置于95至105℃环境温度范围下退火230至310小时;之后将环境温度升温至145至155℃范围继续退火80~120小时;然后将所述基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计取出置于20至25℃环境温度下测试,与该PMOS辐射剂量计未辐照前数据比对校准。 |
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