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一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法

  • 申请号:CN201010256968.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN101907719A
  • 公开(公开)日:2010.12.08
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法
申请号 CN201010256968.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101907719A 公开(授权)日 2010.12.08
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 刘梦新;韩郑生;赵超荣;刘刚
主分类号 G01T1/02(2006.01)I IPC主分类号 G01T1/02(2006.01)I
专利有效期 一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法 至一种对双探头PMOS辐射剂量计进行退火的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及电离辐射剂量测量领域,公开了一种对基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计进行退火方法,该方法将经辐照后失效的所述基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计的正栅电极、背栅电极、源电极以及漏电极接至地线,置于95至105℃环境温度范围下退火230至310小时;之后将环境温度升温至145至155℃范围继续退火80~120小时;然后将所述基于绝缘体上硅的双探头PMOS辐射剂量计取出置于20至25℃环境温度下测试,与该PMOS辐射剂量计未辐照前数据比对校准。

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