专利详情

专利名称	微细结构的光刻方法
申请号	CN201110006476.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102591139A	公开（授权）日	2012.07.18
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	王红丽;闫江
主分类号	G03F7/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/00(2006.01)I;G03F1/20(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I
专利有效期	微细结构的光刻方法至微细结构的光刻方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种微细结构的光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一光刻，形成第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二光刻，形成第二硬掩模图形。其中。第一光刻和第二光刻的光源不同，选自i线水银弧光灯和电子束曝光系统两者之一。依照本发明的微细结构的光刻方法，将传统光学光刻技术和电子束光刻技术结合起来使用，利用电子束曝光来实现微细图形的制作，利用光学光刻来完成其他图形，这样可以既有效解决微细图形的制作问题，又不损失效率。