专利详情

专利名称	一种从工业硅中去除杂质的方法
申请号	CN201210528381.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103030149A	公开（授权）日	2013.04.10
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	王志;张虎;胡磊
主分类号	C01B33/037(2006.01)I	IPC主分类号	C01B33/037(2006.01)I
专利有效期	一种从工业硅中去除杂质的方法至一种从工业硅中去除杂质的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种从工业硅中去除杂质的方法。本发明的从工业硅中去除杂质的方法，包括以下步骤：1）将硅块经粉碎研磨后，筛分得到100~200目的硅粉；2）将硅粉水洗净化，加入到盐酸和氢氟酸的混合溶液浸出；3）将处理后的硅粉加入到王水溶液中进行第二次浸出；4）将处理后的硅粉加入到氢氟酸溶液中进行第三次浸出；上述步骤2）、3）、4）顺序任意变换调整；5）将所得硅粉用纯净水洗涤至中性，最后干燥处理，获得提纯后的硅粉。本发明根据工业硅的杂质赋存形态和特点，优化选择酸介质的组合及其浓度，反应步骤等条件，在常规条件下将工业硅纯度提高至4N以上的纯度。