
一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法
- 申请号:CN201110351131.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院福建物质结构研究所
- 公开(公开)号:CN102558034A
- 公开(公开)日:2012.07.11
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 | ||
申请号 | CN201110351131.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102558034A | 公开(授权)日 | 2012.07.11 |
申请(专利权)人 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 发明(设计)人 | 罗军华;孙志华;陈天亮;洪茂椿 |
主分类号 | C07D213/38(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D213/38(2006.01)I;C07C309/06(2006.01)I;C07C303/32(2006.01)I;G02F1/361(2006.01)I |
专利有效期 | 一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 至一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法,属于功能材料领域。该材料的化学式为C17H19N2O3F3S,室温下属于单斜晶系,其空间群为P21/C,晶胞参数为a=17.508(5),b=7.607(2),c=13.533(4)?,α=90.0°,β=93.712(6)°,γ=90.0°,Z=4,V=1798.4(10)?3。本发明的三阶非线性光学材料具有良好的热学稳定性、较大的非线性吸收效应和自散焦性质,且制备过程中所采用的原料易得、化学合成路线简单、反应条件温和,具有潜在的实施价值。 |
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