专利详情

专利名称	入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置
申请号	CN200410038261.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1699967	公开（授权）日	2005.11.23
申请（专利权）人	中国科学院力学研究所	发明（设计）人	靳刚;孟永宏
主分类号	G01N21/17	IPC主分类号	G01N21/17
专利有效期	入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置至入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置	法律状态	授权
说明书摘要	本发明涉及一种入射角度扫描椭偏成像装置和方法，入射光轴与出射光轴相交于待测样品上一点并形成入射面，待测样品垂直于入射面；入射部分和出射部分中的各光学器件共轴安装在二者确定的光轴上；入射部分发出的扩展的准直、准单色偏振光束，照明到待测样品上，样品对入射光的偏振态进行调制后发出反射的偏振光束，该光束进入出射部分中再次进行偏振态的调制后成像在图像传感器上形成图像的电信号；此电信号进入图像处理及系统控制部分进行图像采集、显示及分析处理，计算机对系统中的各运动部件进行驱动、控制，并接收运动反馈，从而实现对对纳米薄膜表面形貌的多个参数进行定性或定量测量。