
基于量子统计的高精度光学成像装置与方法
- 申请号:CN201210364582.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学技术大学
- 公开(公开)号:CN102902056A
- 公开(公开)日:2013.01.30
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 基于量子统计的高精度光学成像装置与方法 | ||
申请号 | CN201210364582.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102902056A | 公开(授权)日 | 2013.01.30 |
申请(专利权)人 | 中国科学技术大学 | 发明(设计)人 | 孙方稳;崔金明;郭光灿 |
主分类号 | G02B21/36(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B21/36(2006.01)I |
专利有效期 | 基于量子统计的高精度光学成像装置与方法 至基于量子统计的高精度光学成像装置与方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种基于量子统计的光学成像装置,包括激光共聚焦显微装置(1)、单光子计数统计装置(2)和主控装置(3),其中,激光共聚焦显微装置(1)用于激发样品并收集样品发射的荧光,并将该荧光导入所述单光子计数统计装置(2);单光子计数统计装置(2)用于接收来自激光共聚焦显微装置(1)的荧光信号,产生多个单光子计数信号和多光子符合计数信号,并向主控装置(3)输出多个单光子计数信号和多光子符合计数信号;主控装置(3)分别连接于所述激光共聚焦显微装置(1)和单光子计数统计装置(2),用于产生控制信号并分别输出给激光共聚焦显微装置(1)和单光子计数统计装置(2),以控制激光共聚焦显微装置(1)的共聚焦扫描与单光子计数统计装置(2)的数据采集同步。本发明能提供相邻物体的高精度成像和分辨,其精度不受瑞利极限限制。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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