
SiC纳米晶/石墨烯异质结及制备方法和应用
- 申请号:CN201110202795.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
- 公开(公开)号:CN102886270A
- 公开(公开)日:2013.01.23
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | SiC纳米晶/石墨烯异质结及制备方法和应用 | ||
申请号 | CN201110202795.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102886270A | 公开(授权)日 | 2013.01.23 |
申请(专利权)人 | 中国科学院物理研究所 | 发明(设计)人 | 陈小龙;郭丽伟;林菁菁;朱开兴;贾玉萍 |
主分类号 | B01J27/224(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J27/224(2006.01)I;A62D3/17(2007.01)I;C01B3/04(2006.01)I;A62D101/20(2007.01)N |
专利有效期 | SiC纳米晶/石墨烯异质结及制备方法和应用 至SiC纳米晶/石墨烯异质结及制备方法和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种碳化硅纳米晶/石墨烯异质结,SiC纳米晶颗粒的外表面包覆有至少一层石墨烯,通过下述方法得到:将SiC纳米晶颗粒在真空或氩气气氛中,于1000℃-1600℃进行退火处理,得到SiC纳米晶/石墨烯异质结。本发明根据SiC热分解原理,通过调控退火温度、退火时间和环境气氛,可以获得由不同层数的石墨烯包覆的SiC纳米晶颗粒,从而得到SiC纳米晶/石墨烯异质结结构。利用本发明所制备的SiC纳米晶/石墨烯异质结构,在表面催化领域(其中包括表面光催化降解有机物和光催化制氢等方面),具有广泛的应用潜能。 |
交易流程
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