专利详情

专利名称	清洗系统及方法
申请号	CN201010250914.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102371254A	公开（授权）日	2012.03.14
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	王磊;景玉鹏
主分类号	B08B3/02(2006.01)I	IPC主分类号	B08B3/02(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I
专利有效期	清洗系统及方法至清洗系统及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种清洗系统包括：去离子水储罐、CO2气瓶、用于对CO2加热并使其达到高温状态的控制装置、清洗腔室及用于将含去离子水和高温状态的CO2的混合流体喷射到清洗腔室的喷射装置；所述去离子水储罐的出口及所述CO2气瓶的出口与所述喷射装置的入口连接；所述喷射装置的出口与所述清洗腔室的入口连接。本发明公开了一种清洗方法包括：形成高温状态的CO2；形成含去离子水和所述高温CO2的混合流体；及使用所述混合流体对样片进行清洗处理。根据本发明的清洗系统及方法，可以将无机碳化厚层和底部有机光刻胶以及固化交联的SU-8全部剥离，去胶效率大大提高，无残留物，基底材料的损失最小化。