专利详情

专利名称	基于金属纳米缝的光束控制方法
申请号	CN200510086699.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1752832	公开（授权）日	2006.03.29
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	王长涛;史浩飞;杜春雷;罗先刚
主分类号	G02F1/29(2006.01)	IPC主分类号	G02F1/29(2006.01);G02F1/35(2006.01)
专利有效期	基于金属纳米缝的光束控制方法至基于金属纳米缝的光束控制方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	基于金属纳米缝的光束控制方法，根据所需功能器件(聚焦、偏光、发散等)出射光场的要求，计算元件出射面各点的位相分布φ_i (x_i)；以金属银作为金属膜材料，确定入射波长在银膜中趋肤深度；以加工能力对应的最小线宽 ω_i作为出射面位相最大值处的金属缝开孔，以该线宽对应的最大加工深度作为金属膜厚度d，以金属膜厚度d和出射光场位相分布为基础，计算出射光场各点模式传播常数β_i (x_i)；逐次计算出射面其他各点处的金属缝开孔大小ω_i (x_i)最后以位相最大值处为出发点，趋肤深度为金属缝间距，计算相邻缝的缝宽。本发明能够实现偏折、分光、聚焦等功能的，且可在出射面实现任意位相分布。