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一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法

  • 申请号:CN201110140006.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院金属研究所
  • 公开(公开)号:CN102795856A
  • 公开(公开)日:2012.11.28
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法
申请号 CN201110140006.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102795856A 公开(授权)日 2012.11.28
申请(专利权)人 中国科学院金属研究所 发明(设计)人 周延春;孙鲁超;王京阳
主分类号 C04B35/505(2006.01)I IPC主分类号 C04B35/505(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I
专利有效期 一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法 至一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明属于高温功能/结构陶瓷领域,更具体地说,是涉及一种原位反应制备钇硅氧氮(Y4Si2O7N2)陶瓷材料的方法。本发明提供了一种原位反应制备钇硅氧氮陶瓷材料的方法。其以氧化钇粉(Y2O3)、氧化硅粉(SiO2)和氮化硅粉(Si3N4)混合而成的固体粉末混合物作为原料,原料粉的摩尔比为Y2O3∶SiO2∶Si3N4=4∶(0.8-1.2)∶(0.8-1.2),采用原位反应法合成单相的Y4Si2O7N2材料。本发明可以在较低温度下,较短的时间内制备得到高纯度钇硅氧氮(Y4Si2O7N2)陶瓷粉体或者块体材料,所制备出的Y4Si2O7N2陶瓷块体材料具有高熔点、低密度、低热导率等特点,是优良的隔热高温陶瓷材料。

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