一种激光脉冲电镀系统
- 申请号：CN201210342253.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号：CN102817051A
- 公开(公开)日：2012.12.12
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种激光脉冲电镀系统 | ||
| 申请号 | CN201210342253.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102817051A | 公开（授权）日 | 2012.12.12 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 杨盈莹;林学春;于海娟 |
| 主分类号 | C25D5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D5/00(2006.01)I;C25D5/18(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种激光脉冲电镀系统 至一种激光脉冲电镀系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种激光脉冲电镀系统，包括：脉冲激光器、脉冲发生控制器、衰减器、电子快门、扩束器、反射镜、CCD实时监测系统、光学振镜、聚焦物镜、电解池、三维移动台和脉冲电镀电源。本发明采用脉冲电镀电源和脉冲激光器，结合脉冲电镀电源电镀和脉冲激光电镀的工作方式，超越高频脉冲电镀电源的性能限制，控制脉冲激光器发出的激光脉冲与脉冲电镀电源发出的电脉冲相匹配，提高镀层的加工效率和分辨率。应用领域包括激光电镀、激光刻蚀。 | ||
交易流程
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专利 -
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